6月4-6日，广明我国（深圳）世界  。源行半导体 。将露界半博览会将在深圳世界会议 。脸深中心。圳世展举办 。导体广明源（展位号 ：1。广明4G 。源行22）将携172nm等紫外线系列光源 、将露界半设备与模组露脸，脸深要点展现172nm准分子光在晶圆光清洗、圳世展半导体基材外表活化及超纯水TOC降解等工艺环节的导体使用解决方案 。

诚邀职业同伴莅临沟通，广明共探172nm等紫外光在。源行半导体制作
。将露界半范畴的立异使用，携手敞开协作新篇章。

观展攻略。

2025我国（深圳）世界半导体博览会。

时刻 
：2025年6月4-6日 。

地址 ：深圳世界会议中心14号馆。

展位号 ：14G22
。

172nm准分子光立异使用 。

助力半导体制作业高质效晋级。

1晶圆/掩膜版光清洗。

功用 ：高效去除各类微观有机污染物 ，完成超净外表。

优势 ：无化学残留 、低温无损伤、原子级洁净度。

使用 ：晶圆 、光罩、掩膜版 、显现屏、PET、。PCB。等的外表有机污染物清洁、封装前预处理 、光刻胶去除。

使用作用
。

172nm清洁纳米压印模具，进步洁净度。

2晶圆键合改性 。

功用 ：可快速精准调理外表亲水性以及粘附功用
。

优势：无热效应、快速处理、无化学残留。

使用 ：薄膜堆积前处理 、 。MEMS 。封装、3D封装、晶圆键合、倒装芯片键合、引线键合等 。高精度。芯片制作。
。

使用作用 。

照耀后 ，亲水性进步，接触角显着变小 。

3超纯水TOC降解 。

功用：高效降解超纯水中的总有机碳（TOC），洁净度可达ppb级。

优势 ：无化学增加
、在线降解、高效安稳。

使用 ：半导体晶圆制程、显现面板出产的超纯水系统。

技能原理。

172nm紫外光可促进水体生成自由基 ，

把有机物快速氧化为CO₂和H₂O。

诚邀莅临 ，讨论职业新机遇。

深耕光科技使用研制与制作20多年，广明源专心于172nm准分子光源在半导体制作工艺中的立异使用，继续为职业供给高效、牢靠  、高性价比的技能解决方案。

依托专业的流水线设备设计与定制才能，公司可以依据客户需求 ，供给半导体等高端制作制程所需的中心光源部件 、模组及设备
 ，掩盖从试验验证到大规模量产的全流程解决方案，满意不同阶段的出产需求
。一起，依托自主172nm光源技能 ，助力工业链补链强链，提高国产化代替才能 ，保证供应链安全与工业系统安稳。

本次展会 ，咱们等待与您面对面沟通，讨论172nm准分子光在半导体制作范畴不同工艺环节中的技能细节与使用经历
，共享职业洞见，助力半导体制作技能继续优化晋级 。